第341章 与尖端的差距！林决带来的信心！（1/2）

紧接着。

一个被林决规划好的消差工程节点图，出现在众人眼中。

林决声音随之传来，

“前辈们也都清楚，EUV反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差，是因为8米极紫外长光程的全局波前基线失配产生的。”

“目前我们的做法和国外一样。”

“......用11块钼硅多层膜，通过反射镜在斜入射入，让膜层反射偏差经过8米的光程，11的次反射线性累积，最后形成固定波前畸变。”

“我看了胡老给的手稿。”

“目前，我们光机所单块反射镜精度极致工艺水平，面形0.2nRMS，13.5n反射率65%......”

“对比蔡斯，ASML的成熟量产水平来看，面形差了0，反射率差也差了足足5%！”

“而在多次反射累计后......”

“这个差距变得更大了。”

“我们全链路最终波前精度是1.2nRMS，而ASML的，是0.15nRMS。”

“整整8倍的差距！！！”

“在这个数据下，实际工况仅能完成单根纳米线的原理验证！”

“没办法......我们既缺少高端测量仪器，还没有精准的全局耦合补偿模型......连实际误差都拿不到。”

林决的声音在会议室内回响。

他口中的这些问题，在座诸君都是清楚，也是他们为此努力奋斗解决的目标。

根据目前的进展来看......

要追上国外目前量产水平，在原本规划中，可能还要个十二三年左右的时间。

注意.....

这里林决说的还是量产水平，而并非最尖端产品！

“但现在......”

“根据我列出的工程节点推导。”

“林氏函子光学变式......咳咳......请允许我先用这个名字称呼它。”

“我们是不是可以将它先做跨尺度同构映射，然后将零散值变成全局真实的分布呢！？”

“这样做的话，我们就不用再去推演11次反射的相位积累.......”

“而是将十几个零散的可见光测量指数函子，完成两个关键映射！”

“大家且看......”

说着，林决点开其中一个节点示例，一个更加直观的模型图落入众人眼中。

“通过这种方式。”

“我们可以同构映射13.5纳米的EUV波长分布，以及同构11块镜子串起来后的误差分布。”

“如此一来。”

“我们便能准确知道，每一块镜子的具体相位偏差。”

核心专家组们听到此话后，不禁陷入沉思。

很快，有个跟原本就随胡老的光学设计师站起来问，

“林决你的想法很新奇，不过我有点疑惑，你要怎么确定每块镜子背面促动器要加的补偿电压？”

一听这话。

林决笑了出来，就在这儿等着你呢。

他关掉当前画面，打开另外一个节点图。

“函子根据这个真实的相位分布，直接输出电压值给促动器施加局部变形，把镜面反向相位补偿量就行。”

那个光学设计师皱眉沉思了一会儿，

“嗯，逻辑上好像勉强能行。”

在他的视角中。

林氏函子光学变式这个东西，还没用科学进行验证过。

所以.....

还得保持怀疑谨慎的态度才行。

林决也很赞同，“确实，这是相对理想化的推演，实际工况中，咱们还得经过反复测试。”

等到那人坐下，立马又是一个个专家站起来提问。

“没有绝对标定的参考基准，要怎么确定补偿量没有系统偏差呢？”

“多路径反射杂光带来的对比度损失，你靠波前补偿怎么消掉？”

“如果换高NA的更长光程，这套方法是否还能使用？”

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